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在氧化染色整個流程中，因為氧化工藝原因造（zào）成（chéng）染色不良是比較普遍的。氧化膜的膜厚和孔隙均勻一致（zhì）是（shì）染色（sè）時獲得均勻一（yī）致（zhì）顏色的前提和基礎，為（wéi）獲得均勻一致的氧化膜（mó），保證足夠的循環量，冷卻量（liàng），保證良好（hǎo）的導電性是舉足輕重的，此外就是氧化工藝的穩（wěn）定性。氧化溫度，控製在20℃左右，氧化槽液的溫度對染色的影響非常顯著，過低的溫度致使氧化膜的膜孔致密，染色速度顯著（zhe）減緩；溫度過高，氧化膜蔬鬆（sōng），容易粉化，不利於染色的控製，氧化槽的溫差變化應在2℃以內為宜。硫酸濃度，控製在180—200g／l。稍高的硫酸濃度可促進氧化膜的溶解反應加快，利於（yú）孔（kǒng）隙的擴張，更易於染色；鋁離子濃度，控製在5—15 g／l。鋁離（lí）子小於5g／l，生成（chéng）的氧化膜吸附能（néng）力（lì）降低，影響上色速度，鋁離子大於15g／l時，氧化膜的均勻性受到影響，容易出現不規則的膜層。
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